第一四七章 寻找外援
芯片加工厂的事按部就班的进行,王岸然也放下一块大石头。
不过这只是开始,王岸然要买的不仅仅是一摊子设备,二是要消化技术。
就那光刻机来说,这套设备使用的是尼康生产的gkl107436纳米波长紫光光源,用的是高压汞灯过滤之后色波长。
这套设备用不了几年就会被淘汰。
相比于市场上更为先进的248纳米的紫光光源光刻机落后了两代,中间相隔了一代365纳米光源光刻机。
要知道365纳米和248纳米光源,中间隔了一道鸿沟。
436纳米紫光光源演进到365纳米紫光光源,只能说是技术的进步,所用的光源都是高压汞灯。
而到了248纳米紫光光源,那就是技术的换代,所用的光源是卤素激光光源。
而且,王岸然记得很清楚,在1995年,193纳米紫光激光光源的光刻机在技术上已经取得重大突破,在今后的几年也将投入市场。
要知道,芯片生产的核心装备光刻机,每一次更新换代付出的代价,至少是百亿美的数量级金,而且越往后越难。
历史上,193纳米紫光光刻机之后的换代,玩死了一大批老牌光刻机厂家。
原本全世界可以生产光刻机的有十三家,日本就有四家,到157纳米光刻机之后,也就ASML能勉强活下来,其他一大批厂家要么倒闭,要么半死不活。
岛国最顶尖的尼康和佳能,也因为方向错误,在157纳米干式光刻与ASML浸没式光刻机在竞争中落败。
再加上ASML又搞出个双工作台技术,大大提高了芯片的生产力和精度。
让两大巨头彻底从生产高端光刻机,沦为售卖中低端产品,再也无力最顶尖的极紫光光刻机的竞争。
到了9102年,全世界的高端市场,只养活了一家ASML。
事实上,如果没有台积电,Intel,三星等芯片巨头的输血,硕果仅存的ASML也将被市场的浪潮吞没,光是台积电和三星,在2016年就投了20亿欧元,砸在ASML身上。
难,真难,也不一定会取得成功,光刻机的研究就是吞金巨兽,有没有意义?
这是肯定的。
这不是钱的事。
但光刻机,光刻胶,蚀刻机,封装设备,光凭华芯科技一家,吃透这些技术基本上不可能,这需要调动全社会的力量。
在清大的光学研究所,王岸然生了一肚子的闷气。
刘本清教授在激光光源上耕耘一生,在1971年,参与了我国第一台紫光干涉激光的研制,在1980年,负责国家第一台接近式JL_01光刻机的研制。
他实在受不了,自己的研究工作,会受一个毛头小伙子的指点。
而王黯然也是气不过,自己在光学研究所投了上千万,现在好了,就是增加一个浸没式光刻机的探讨研究,就这么难?
“王总,我再重申一遍,浸没式光刻机虽然在理论上可以缩小投影图,不过在实际操作上,已经被证明了,这套技术行不通,研究下去就是浪费钱。”
“刘教授,我只是建议在这上面再做一些探讨,而且这项技术并没有证明行不通,而是还没有行通。”
刘本伟不屑一顾。
“王总,我跟你说这句话是实事求是的,浸没式光刻技术在七八年前就有立项,其中的困难跟你说,你也不清楚。
我只想说明一点,有那个精力研究浸没式光刻机,把精力投到紫光激光光源上,效果会好的多。”
看来在这个时代,大家的普遍意识就是,搞浸没式光刻机是条绝路。
王岸然深吸一口气,犟鸭子嘴硬的科研人员太多了,自己当初也是他们的一员,跟刘本清生气,就是跟自己生气。
这些人要是犯气牛脾气来,能把天捅破,唯一的解决之道,就是以德服人,哦,不,是以理服人。
“超高纯度折射率液体,往往水里有一粒微尘,或者一个气泡,或者多了一些离子,都可能对加工造成巨大的影响。
再加上高纯水浮在晶片上,目前的光刻胶中的分子会溶进水中,造成液体介质污染,刘教授,我说的没错吧!”
刘本清在王岸然说第一句话的时候就愣住了,什么情况,他懂。
待到王岸然将两大技术难点合盘而出,刘本清说道:“王总,你……?”
王岸然装着没看见,背过身,继续说道:“除了两大问题,在实际操作中,也会面临平台的稳定性,校准系统,曝光时间等问题,需要按每台机器的类型多次调试……”
刘本清想给王岸然竖个大拇指,说一声牛,这些资料可不怎么容易找到。
“王总,既然你知道浸没式光刻机的缺陷,还需要继续坚持吗?”
王岸然点点头,说道:“为什么不!刘教授,高纯水介质我们可以自己研发也可以跟外国合作,厌水光刻胶我们也可以这么办,当然,也可以考虑在光刻胶上再喷一道绝水薄膜,没有试过,怎么知道不行!”
“我们试过很多种办法!”
“那就再试,试到解决为止……”
王岸然毫不客气,作为投资人,他是来发布命令的,而不是跟你讨价还价。
浸没式光刻机肯定是未来的方向,而且波长越长,通过折射后,缩微的效果越明显。
况且,光刻机的波长并能完全决定芯片的制程,通过特定的曝光方式也可以提高制程。
事实证明,193纳米的紫光光源,也可以进行65纳米芯片工艺的生产。
以前世对半导体芯片制造的理解,浸没式光刻,多重曝光方式能够取得进步的话,完全可以将这台东芝的二手货,改造成一台可以生产800纳米工艺的芯片加工厂,甚至更为先进的320纳米工艺也不是不可能。
只不过芯片生产的效率,肯定会差很多,但至少说明一点,我们掌握了这项技术。
而且通过这一过程,华芯科技还可以积累这部分的专利,在ASML前面设置一套专利壁垒。
至于这套专利有什么用,王岸然无法评估,按照他的估计,到那个时候,美利坚政府应该也会插手吧!
还有五年的时间,王岸然在纸上写下磁悬浮双工作台,浸没式光刻系统,两大未来发展方向。
这次他不打算,光靠国内研究机构的力量。
“该到寻找外援的时候了!”
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不过这只是开始,王岸然要买的不仅仅是一摊子设备,二是要消化技术。
就那光刻机来说,这套设备使用的是尼康生产的gkl107436纳米波长紫光光源,用的是高压汞灯过滤之后色波长。
这套设备用不了几年就会被淘汰。
相比于市场上更为先进的248纳米的紫光光源光刻机落后了两代,中间相隔了一代365纳米光源光刻机。
要知道365纳米和248纳米光源,中间隔了一道鸿沟。
436纳米紫光光源演进到365纳米紫光光源,只能说是技术的进步,所用的光源都是高压汞灯。
而到了248纳米紫光光源,那就是技术的换代,所用的光源是卤素激光光源。
而且,王岸然记得很清楚,在1995年,193纳米紫光激光光源的光刻机在技术上已经取得重大突破,在今后的几年也将投入市场。
要知道,芯片生产的核心装备光刻机,每一次更新换代付出的代价,至少是百亿美的数量级金,而且越往后越难。
历史上,193纳米紫光光刻机之后的换代,玩死了一大批老牌光刻机厂家。
原本全世界可以生产光刻机的有十三家,日本就有四家,到157纳米光刻机之后,也就ASML能勉强活下来,其他一大批厂家要么倒闭,要么半死不活。
岛国最顶尖的尼康和佳能,也因为方向错误,在157纳米干式光刻与ASML浸没式光刻机在竞争中落败。
再加上ASML又搞出个双工作台技术,大大提高了芯片的生产力和精度。
让两大巨头彻底从生产高端光刻机,沦为售卖中低端产品,再也无力最顶尖的极紫光光刻机的竞争。
到了9102年,全世界的高端市场,只养活了一家ASML。
事实上,如果没有台积电,Intel,三星等芯片巨头的输血,硕果仅存的ASML也将被市场的浪潮吞没,光是台积电和三星,在2016年就投了20亿欧元,砸在ASML身上。
难,真难,也不一定会取得成功,光刻机的研究就是吞金巨兽,有没有意义?
这是肯定的。
这不是钱的事。
但光刻机,光刻胶,蚀刻机,封装设备,光凭华芯科技一家,吃透这些技术基本上不可能,这需要调动全社会的力量。
在清大的光学研究所,王岸然生了一肚子的闷气。
刘本清教授在激光光源上耕耘一生,在1971年,参与了我国第一台紫光干涉激光的研制,在1980年,负责国家第一台接近式JL_01光刻机的研制。
他实在受不了,自己的研究工作,会受一个毛头小伙子的指点。
而王黯然也是气不过,自己在光学研究所投了上千万,现在好了,就是增加一个浸没式光刻机的探讨研究,就这么难?
“王总,我再重申一遍,浸没式光刻机虽然在理论上可以缩小投影图,不过在实际操作上,已经被证明了,这套技术行不通,研究下去就是浪费钱。”
“刘教授,我只是建议在这上面再做一些探讨,而且这项技术并没有证明行不通,而是还没有行通。”
刘本伟不屑一顾。
“王总,我跟你说这句话是实事求是的,浸没式光刻技术在七八年前就有立项,其中的困难跟你说,你也不清楚。
我只想说明一点,有那个精力研究浸没式光刻机,把精力投到紫光激光光源上,效果会好的多。”
看来在这个时代,大家的普遍意识就是,搞浸没式光刻机是条绝路。
王岸然深吸一口气,犟鸭子嘴硬的科研人员太多了,自己当初也是他们的一员,跟刘本清生气,就是跟自己生气。
这些人要是犯气牛脾气来,能把天捅破,唯一的解决之道,就是以德服人,哦,不,是以理服人。
“超高纯度折射率液体,往往水里有一粒微尘,或者一个气泡,或者多了一些离子,都可能对加工造成巨大的影响。
再加上高纯水浮在晶片上,目前的光刻胶中的分子会溶进水中,造成液体介质污染,刘教授,我说的没错吧!”
刘本清在王岸然说第一句话的时候就愣住了,什么情况,他懂。
待到王岸然将两大技术难点合盘而出,刘本清说道:“王总,你……?”
王岸然装着没看见,背过身,继续说道:“除了两大问题,在实际操作中,也会面临平台的稳定性,校准系统,曝光时间等问题,需要按每台机器的类型多次调试……”
刘本清想给王岸然竖个大拇指,说一声牛,这些资料可不怎么容易找到。
“王总,既然你知道浸没式光刻机的缺陷,还需要继续坚持吗?”
王岸然点点头,说道:“为什么不!刘教授,高纯水介质我们可以自己研发也可以跟外国合作,厌水光刻胶我们也可以这么办,当然,也可以考虑在光刻胶上再喷一道绝水薄膜,没有试过,怎么知道不行!”
“我们试过很多种办法!”
“那就再试,试到解决为止……”
王岸然毫不客气,作为投资人,他是来发布命令的,而不是跟你讨价还价。
浸没式光刻机肯定是未来的方向,而且波长越长,通过折射后,缩微的效果越明显。
况且,光刻机的波长并能完全决定芯片的制程,通过特定的曝光方式也可以提高制程。
事实证明,193纳米的紫光光源,也可以进行65纳米芯片工艺的生产。
以前世对半导体芯片制造的理解,浸没式光刻,多重曝光方式能够取得进步的话,完全可以将这台东芝的二手货,改造成一台可以生产800纳米工艺的芯片加工厂,甚至更为先进的320纳米工艺也不是不可能。
只不过芯片生产的效率,肯定会差很多,但至少说明一点,我们掌握了这项技术。
而且通过这一过程,华芯科技还可以积累这部分的专利,在ASML前面设置一套专利壁垒。
至于这套专利有什么用,王岸然无法评估,按照他的估计,到那个时候,美利坚政府应该也会插手吧!
还有五年的时间,王岸然在纸上写下磁悬浮双工作台,浸没式光刻系统,两大未来发展方向。
这次他不打算,光靠国内研究机构的力量。
“该到寻找外援的时候了!”
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